Produsen semikonduktor Intel resmi menggunakan mesin litografi generasi terbaru buatan ASML untuk memproduksi sebagian chip laptop unggulannya, Panther Lake. Langkah ini diambil untuk meningkatkan efisiensi dan mendorong penggunaan teknologi tercanggih dalam industri manufaktur chip.
ASML mengungkapkan bahwa Intel mulai menggunakan mesin High Numerical Aperture (High NA) Extreme Ultraviolet (EUV) tersebut setelah melalui serangkaian pengujian sejak 2024. Mesin ini berfungsi mencetak pola sirkuit mikro pada chip dengan presisi tinggi. Adopsi teknologi High NA menjadi sorotan industri karena biayanya yang sangat tinggi, mencapai sekitar USD400 juta atau setara Rp6,5 triliun per unit, dua kali lipat dari harga mesin EUV standar.
Selain nilai investasi yang masif, integrasi teknologi ini ke lini produksi massal menghadapi tantangan teknis yang kompleks. Meski demikian, langkah ini dinilai krusial seiring kebutuhan industri untuk terus memperkecil ukuran fitur komponen sirkuit hingga ke skala atomik.
Intel mulai menerima unit High NA pertama pada 2024 yang ditempatkan di fasilitas riset dan pengembangan di Hillsboro, Oregon. Saat ini, Intel menerapkan mesin High NA EUV pada lapisan spesifik chip Panther Lake. Langkah ini memungkinkan Intel dan ASML mengumpulkan data operasional serta mengoptimalkan performa alat dalam skala produksi nyata.
Pihak Intel sendiri memilih tidak memberikan komentar terkait pengumuman dari ASML tersebut.
